Intel前CEO基辛格的新职务专注于开发极紫外光刻技术，成功实现了大幅降低成本的目标，这一创新技术的开发将极大地推动半导体产业的发展，有望大幅度提高生产效率并促进科技创新，基辛格的新职务将致力于推动行业的技术革新和成本优化，为行业带来革命性的变革。
报道指出,Intel前任CEO帕特·基辛格已开启新的职业旅程，加盟了专注于极紫外光刻技术（EUV）研发的xLight公司，担任执行董事长，这一创新领域的探索旨在大幅度降低光刻技术的成本，以推动半导体制造领域的进步。
xLight公司是一家新兴的半导体行业创业公司,专注于研发面向EUV极紫外光刻机的技术，该公司致力于开发基于直线电子加速器的自由电子激光（FEL）技术光源系统，与传统的ASML EUV光刻机使用的激光等离子体EUV光源（LPP）相比，xLight的FEL技术产生的EUV光源功率更高，可达到超过10kW，并且能满足多台光刻机的需求，更重要的是，它不会产生锡滴碎片，有助于减少环境污染。
研究表明,与传统的LPP EUV光源相比，FEL EUV光源的建设成本和运营成本均大幅降低，EFL路线的建设成本只有LPP路线的1/2，而运营成本更是低至LPP路线的1/15，综合成本约为LPP路线的三分之一，xLight公司正在研发的基于ERL（能量回收直线加速器）的FEL EUV光源系统具有更高的功率输出，远超ASML的现有技术，这一系统可将单块晶圆的光刻成本降低约50%，并且单个光源系统就能支持20台光刻机，使用寿命长达30年，值得一提的是，xLight公司的FEL EUV光源系统兼容现有的ASML EUV光刻机，可直接整合，预计从2028年开始，xLight的这项技术将接入ASML光刻机并开始生产晶圆。
xLight公司虽然规模不大,但团队在光刻和加速器领域拥有丰富经验，其中包括来自斯坦福直线加速器等机构的资深研究人士，首席科学家Gennady Stupakov博士更是荣获IEEE核能和等离子体科学学会粒子加速器科学技术奖，随着基辛格的加盟和xLight公司的不断努力，我们期待这一创新技术能为半导体行业带来更大的突破和进步。
随着基辛格的加入和xLight公司的持续研发努力,我们有理由相信这一创新技术将为半导体制造领域带来革命性的进步，推动行业的持续发展。
